尼康研发Litho Booster 1000对准站，提升晶圆键合套刻精度

尼康正在研发Litho Booster 1000对准站，该设备旨在提高晶圆键合套刻精度，该对准站具备高精度定位技术，可确保晶圆加工过程中的精确对准，从而优化键合效果和提升套刻精度，这一创新技术的引入将有助于提升半导体制造行业的生产效率和产品质量。

12月13日消息，尼康本月11日宣布该企业正在加速推进新一代半导体工艺设备锐布LithoBooster1000对准站的开发工作，计划于2026年下半年正式上市。
锐布LithoBooster1000能够在曝光工艺前对晶圆进行高精度测量，并将补正值前馈给光刻机，从而大幅提升套刻精度。其相较上代对准站实现了更高精度的多点及绝对值测量。先进制程半导体的3D立体化是大势所趋。在利用多台光刻机进行多层结构曝光的制造工艺中，尤其是在晶圆对晶圆(WoW)键合环节，晶圆极易发生形变或位移现象。而可兼容不同厂商光刻机的LithoBooster1000能进一步提升这一过程的良率。